WEKO3
アイテム
微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善
https://doi.org/10.20604/00000216
https://doi.org/10.20604/000002165d1439de-40dc-44e3-b337-1ed7140106ce
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
1083B_Abstract (3.6 MB)
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.png)
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1083B (2.4 MB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||||||
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| 公開日 | 2016-06-10 | |||||||||||
| タイトル | ||||||||||||
| タイトル | 微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||||||
| ID登録 | ||||||||||||
| ID登録 | 10.20604/00000216 | |||||||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||||||
| アクセス権 | ||||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||||
| 著者 |
倉知 郁生
× 倉知 郁生
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| 学位名 | ||||||||||||
| 学位名 | 博士（工学） | |||||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||||
| 学位授与機関名 | 東京理科大学 | |||||||||||
| 学位授与年度 | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||
| 内容記述 | 2015 | |||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||||||
| 学位授与年月日 | 2016-03-18 | |||||||||||
| 学位授与番号 | ||||||||||||
| 学位授与番号 | 乙第1083号 | |||||||||||
| 学位記番号 | ||||||||||||
| 値 | 工学第915号 | |||||||||||
| 著者版フラグ | ||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||
